第一百六十四章 恐怖的方向 (第1/5页)

    王易开始了时不时进入超频的一个长期实验状态，外面的事都由林诗琴把控，可以便宜行事。

    一直也没有被打断进程。

    其实在完成了a1隐形眼镜镜片后，王易就一直在摸索魔力锁定电子能级，使得电子不吸收高能光子让高能光束可以通过。

    （这里可以复习一下105章后半段，毕竟挂在科幻频道，一些基本的还是要符合一下的好点。）

    一直以来的研究也按部就班的还算顺利，树脂透光的波长一直到了150nm左右。

    这可以说已经是相当夸张的一个成绩！

    当前极紫外线euv光刻机还停留在阿斯麦的实验室阶段，或许已经出现了雏形和原型机，但euv光刻机的本来目的是要量产芯片，加上需要真空环境，所以不管是到光刻机可以量产芯片还是到光刻机本身的商业化都还需要时间。

    目前最顶尖的光刻机，是阿斯麦弯道超车与积电理论合作弄出来的193nm波长浸润式duv光刻机，因为利用液体折射率，使得明明193nm的深紫外线波长极限精度可以大大增加。

    虽说目前普遍芯片工艺都还是20nm以上，但浸润式的duv光刻机理论精度可以达到极限7nm，不过要做到这一点也得配套的工艺上来，不是谁都能达到的。

    以前光刻机巨头的康尼和佳能，就是一直采用干式光刻机，只想着缩短光源波长，哪怕弄出了157nm波长光刻机也依然被阿斯麦